Disciplina Discipline PSI5841
Descargas Elétricas e Plasmas para Processos de Deposição e Corrosão de Materiais

Área de Concentração: 3140

Concentration area: 3140

Criação: 05/10/2020

Creation: 05/10/2020

Ativação: 05/10/2020

Activation: 05/10/2020

Nr. de Créditos: 8

Credits: 8

Carga Horária:

Workload:

Teórica

(por semana)

Theory

(weekly)

Prática

(por semana)

Practice

(weekly)

Estudos

(por semana)

Study

(weekly)

Duração Duration Total Total
3 1 6 12 semanas 12 weeks 120 horas 120 hours

Docente Responsável:

Professor:

Ronaldo Domingues Mansano

Objetivos:

O curso propõe fornecer embasamento teórico e prático sobre os fundamentos específicos de reatores à plasma para processos de deposição, corrosão e tratamento de materiais de interesse em microeletrônica e outras áreas industriais. Serão estudados conceitos de física das descargas gasosas e plasmas, propriedades relativas aos reatores com acoplamento de potência de radiofrequência tanto indutivo quanto capacitivo e alta-densidade, projeto de reatores e tecnologias de plasmas.

Justificativa:

Plasmas são usados em uma ampla variedade de pesquisas e aplicações industriais sendo a área de processos de fabricação em microeletrônica uma das que mais se beneficiam com o uso de plasmas para processamento de materiais eletrônicos. Nestas aplicações os processos a plasma são usados para promover a corrosão ou a deposição de materiais com características determinadas pela interação físico-química do gás parcialmente ionizado por meio de uma descarga elétrica em um sistema denominado reator a plasma. O grande desenvolvimento dos Laboratórios do PSI aplicação de processos de plasma em microeletrônica e a infraestrutura existente permitem a familiarização do aluno com processos já utilizados, novos resultados e a possibilidade de amadurecimento do conhecimento de técnicas de análise de plasma, como sondas eletrostáticas e espectrofotometria.

Conteúdo:

a) Noções de vácuo e aplicação em processos de microeletrônica e industriais; b) Física do Plasma; c) Modelamento de reatores de plasma; d) Aplicação de plasmas em microeletrônica; e) Corrosão e deposição por plasma; f) Reatores de plasma; g) Processos com plasma de alta densidade; h) Plasmas DC, RF e microondas; i) Métodos de diagnóstico em plasmas; j) Aplicação de plasmas em processamento de materiais.

Forma de Avaliação:

Atividades Semanais: 10% Prova Final: 50 % Apresentação de seminário: 20% Monografia: 20%

Bibliografia:

1) CHAPMAN, B. "Glow discharge process".Wiley-Interscience, N. York, Chichester, Toronto, 1980. 2) LIEBERMAN, M. A.; LICHTENBERG, A. J. "Principles of plasma discharges and materials processing". Wiley-Interscience, N.York, Chichester, Brisbane, Toronto, Singapure, 1994. 3) POPOV, O.A. "High density plasma sources". Noyes Publications, New Jersey, USA, 1995. 4) RUZIC D.N. "Electric probes for low temperature plasmas" The American Vacuum Society, New York, 1994. 5) SELWYN, G.S. "Optical diagnostic techniques for plasma processing"The American Vacuum Society, New York, 1993. 6) COBURN, J.W. "Plasma etching and reactive ion etching" The American Vacuum Society, New York, 1982. 7) BRUNO, G.; CAPEZZUTO,P.;MADAN,A. " Plasma deposition of amorphous silicon-based materials". Academic Press. Inc., Boston, San Diego, New York, Berkeley, London, Sydney, Tokyo, Toronto, 1995. 8) D'AGOSTINO, R. "Plasma deposition,treatment, and etching of polymers" Academic Press. Inc., Boston, San Diego, New York, London, Sydney, Tokyo, Toronto, 1990. 9) ROSSNAGEL, S.M.; CUOMO, J.J.; WESTWOOD, W.D. "Handbook of plasma processing technology" NOYES PUBLICATIONS, Westwood., New Jersey, 1989 10) GRIEM, H.R. "Plasma spectroscopy" McGraw-Hill, New York, San Francisco, Toronto, London. 11) PIERSON, H.O. "Handbook of chemical vapor deposition" NOYES PUBLICATIONS, Westwood., New Jersey, 1989 12) WASA, K. HAYAKAWA, S. "Handbook of sputter deposition technology" NOYES PUBLICATIONS, Westwood., New Jersey, 1992 13) MADOU, M. "Fundamentals of Microfabrication: The Science of Miniaturization", CRC Press, 2002 14) PLUMMER, J.D. DEAL, M.D. GRIFFIN, P. B. "Silicon VLSI Technology: Fundamentals, Practice, and Modeling", Prentice Hall, 2000. 15) FRANSILA S. “Introduction to Microfabrication”, 2th edition, John Wiley and Sons (Chichester) (2008). 16) ROTH J. R. “Industrial Plasma Engineering” vol. 1 Principles, IOP Publishing,1995. 17) ROTH J. R. “Industrial Plasma Engineering” vol. 2 Applications to Non Thermal Plasma Processing, IOP Publishing, 2001. 18) Fridman A., Kennedy L. “Plasma Physics and Engineering” , 2th edition CRC Press, 2011 19) Artigos relacionados com a disciplina.

Idiomas ministrados:

Português

Languages taught:

Portuguese

Tipo de oferecimento da disciplina:

Presencial

Class type:

Presencial